Numerical simulation of chemical downstream etching

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Riedel, Uwe (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Heidelberg IWR 1997
Schriftenreihe:Preprint / Interdisziplinäres Zentrum für Wissenschaftliches Rechnen der Universität Heidelberg 97,19
Schlagworte:
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Beschreibung:7 S.
graph. Darst.