Entwicklungsbegleitende Risikobehandlung neuer Technologien [am Beispiel der Physical-vapour-deposition-(PVD)-Technologie]
Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1996
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
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Format: | UnknownFormat |
Sprache: | ger |
Veröffentlicht: |
Aachen
Mainz
1997
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Ausgabe: | 1. Aufl. |
Schriftenreihe: | Werkstoffwissenschaftliche Schriftenreihe
17 |
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Zusammenfassung: | Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1996 |
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Beschreibung: | IV, 178 S. Ill. |
ISBN: | 3896532111 3-89653-211-1 3896532103 3-89653-210-3 |