Entwicklungsbegleitende Risikobehandlung neuer Technologien [am Beispiel der Physical-vapour-deposition-(PVD)-Technologie]

Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1996

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Löffler, Frank (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Aachen Mainz 1997
Ausgabe:1. Aufl.
Schriftenreihe:Werkstoffwissenschaftliche Schriftenreihe 17
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Beschreibung
Zusammenfassung:Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1996
Beschreibung:IV, 178 S.
Ill.
ISBN:3896532111
3-89653-211-1
3896532103
3-89653-210-3