Untersuchungen zur Gasphasenreaktion von SiCl 4 mit NH 3 im Temperaturbereich von 425 bis 900°C

Freiberg, TU Bergakademie, Diss., 1995

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Focke, Thomas (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	1995
Schlagworte:	Hochschulschrift > Siliciumtetrachlorid > Gasphasenreaktion
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