Growth monitoring of ultrathin copper and copper oxide films deposited by atomic layer deposition = Untersuchungen zum Wachstum ultradünner Kupfer- und Kupferoxid Schichten mittels Atomlagenabscheidung

Dissertation, Technische Universität Chemnitz, 2016

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Dhakal, Dileep (VerfasserIn)
Körperschaft:	Technische Universität Chemnitz-Zwickau (Grad-verleihende Institution)
Weitere Verfasser:	Schulz, Stefan E. (BerichterstatterIn), Lang, Heinrich (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Chemnitz 2016
Schlagworte:	Kupfer > Kupferoxide > Metallisierungsschicht > Reduktion > ULSI
Online Zugang:	Inhaltsverzeichnis
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!