A new model for measuring the impact of patent value growth trajectory

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:International journal of technology, policy and management
1. Verfasser: Chang, Shu-Hao (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Fan, Chin-Yuan (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: 2017
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