Characterization of plasma-enhanced CVD processes : symposium held November 27 - 28, 1989, Boston, Masachusetts, U.S.A.

Characterization of plasma-enhanced CVD processes symposium held November 27 - 28, 1989, Boston, Masachusetts, U.S.A.

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser: Lucovsky, Gerald (HerausgeberIn), Ibbotson, Dale E. (HerausgeberIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Pittsburgh, Pa. Materials Research Soc. 1990
Schriftenreihe:Materials Research Society symposium proceedings 165
Schlagworte:
Plasma-enhanced chemical vapor deposition > Congresses > Integrated circuits > Design and construction > Konferenzschrift
Online Zugang:Inhaltsverzeichnis
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Beschreibung
Beschreibung:IX, 250 S.
Ill., graph. Darst.
ISBN:1558990534
1-55899-053-4