Energy beam-solid interactions and transient thermal processing symposium held November 1983 in Boston, Massachusetts, USA

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Bibliographische Detailangaben
Körperschaft:	Materials Research Society (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Fan, John C. C. (BerichterstatterIn), Johnson, Noble M. (BerichterstatterIn), Fan, John C. (HerausgeberIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	New York, NY u.a. North-Holland 1984
Schriftenreihe:	Materials Research Society symposia proceedings 23
Schlagworte:	Materials > Effect of radiation on > Semiconductors > Semiconductor industry > Laser use in > Annealing of crystals > Congresses > Integrated circuits > Konferenzschrift > Strahlenbelastung > Halbleiter
Online Zugang:	Inhaltsverzeichnis
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