Mehrlagen-Resistsysteme für optische und Elektronenstrahl-Lithographie

Bibliographische Detailangaben

Körperschaft:	RWTH Aachen Lehrstuhl und Institut für Halbleitertechnik (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Beneking, Heinz (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Eggenstein-Leopoldshafen Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik 1986
Schriftenreihe:	Forschungsbericht / Bundesministerium für Forschung und Technologie Technologische Forschung und Entwicklung Elektronik T 86-045
Schlagworte:	Bericht
Online Zugang:	Inhaltsverzeichnis
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