Anisotropic etching of crystalline silicon in alkaline solutions 1 Orientation dependence and behavior of passivation layers

Bibliographische Detailangaben

Körperschaft:	Messerschmitt-Bölkow-Blohm GmbH (MBB) (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Seidel, H. (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Veröffentlicht:	München 1989
Schriftenreihe:	MBB-Bericht. Z 311-89 PUB,1 OTN 030783-1
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