Weiterentwicklung von SiC/W-Masken und Anwendung der Röntgenlithografik [Röntgenlithografie] zur Herstellung von komplexen VLSI-Schaltungen Abschlußbericht ; Berichtszeitraum 1.10.1988 - 31.3.1991 ; Contract BMFT NT2769B8

Bibliographische Detailangaben

Körperschaft:	Philips GmbH Forschungslaboratorium Forschungsabteilung Angewandte Materialforschung (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Sautter, D. (HerausgeberIn), Lüthje, H. (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Veröffentlicht:	Hamburg 1991
Schriftenreihe:	Forschungsabteilung Angewandte Materialforschung, Philips GmbH Forschungslaboratorium Hamburg FB 780
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