Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen

Stuttgart, Univ., Fak. Physik, Diss., 1991

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Bergmann, Ralf B. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	1991
Schlagworte:	Hochschulschrift
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Stuttgart, Univ., Fak. Physik, Diss., 1991
Beschreibung:	132 S. graph. Darst.