Oberflächenchemie von Silicium, speziell: Verhalten von Silizium bei der Si3N4-Schlickerguss-Technologie

Bayreuth, Univ., Diss. : 1989

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Meisel, Ingrid (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	1989
Schlagworte:	Hochschulschrift
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Bayreuth, Univ., Diss. : 1989
Beschreibung:	129 S Ill., graph. Darst