Selective low pressure chemical vapor deposition of TaSi2 on silicon

München, Techn. Univ., Diss., 1991

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Wendling, Thomas P. H. F. (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: 1991
Schlagworte:
Hochschulschrift
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Beschreibung
Zusammenfassung:München, Techn. Univ., Diss., 1991
Beschreibung:158 S
Ill., graph. Darst
30 cm