Über das Wachstum von InP im plasmaunterstützten MBE-Prozeß

Zugl.: Darmstadt, Techn. Hochschule, Diss.

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Schütz, Reiner (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Düsseldorf VDI-Verl. 1990
Ausgabe:	Als Ms. gedr.
Schriftenreihe:	Fortschrittberichte VDI Reihe 9, Elektronik, Mikro- und Nanotechnik 105
Schlagworte:	Hochschulschrift > Indiumphosphid > Drei-Fünf-Halbleiter > Molekularstrahlepitaxie > Plasma
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