Über das Wachstum von InP im plasmaunterstützten MBE-Prozeß

Über das Wachstum von InP im plasmaunterstützten MBE-Prozeß

Zugl.: Darmstadt, Techn. Hochschule, Diss.

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Schütz, Reiner (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Düsseldorf VDI-Verl. 1990
Ausgabe:Als Ms. gedr.
Schriftenreihe:Fortschrittberichte VDI Reihe 9, Elektronik, Mikro- und Nanotechnik 105
Schlagworte:
Hochschulschrift > Indiumphosphid > Drei-Fünf-Halbleiter > Molekularstrahlepitaxie > Plasma
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Beschreibung
Zusammenfassung:Zugl.: Darmstadt, Techn. Hochschule, Diss.
Beschreibung:Literaturverz. S. 111 - 117
Beschreibung:117 S
zahlr. graph. Darst
ISBN:3181405094
3-18-140509-4