Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides : for VLSI/ULSI applications

Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides for VLSI/ULSI applications

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Schmitz, John E. J. (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Park Ridge, N.J. Noyes Publ. 1991
Schriftenreihe:Materials science and process technology series
Schlagworte:
Integrated circuits > Very large scale integration > Tungsten > Vapor-plating > Ultra large scale integration
Online Zugang:Publisher description
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