Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides for VLSI/ULSI applications

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Schmitz, John E. J. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Park Ridge, N.J. Noyes Publ. 1991
Schriftenreihe:	Materials science and process technology series
Schlagworte:	Integrated circuits > Very large scale integration > Tungsten > Vapor-plating > Ultra large scale integration
Online Zugang:	Publisher description
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