Entwicklung einer Epitaxieanlage einschließlich Prozeßentwicklung zur Abscheidung homogener GaAs/AlGaAs Schichten mittels Gasphasenepitaxie Abschlußbericht ; Contract 415-7291-NT 2717 F6

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: Aixtron GmbH (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Strauch, G. (BearbeiterIn), Heyen, M. (BearbeiterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Aachen ca. 1988
Schlagworte:
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Beschreibung:53 S