D.C. magnetron sputtering of oxidation-resistant Cr and CrN films monitored by optical emission spectrometry 2nd International Conference on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, 10-14.09.1990

Bibliographische Detailangaben

Körperschaft:	Deutsche Aerospace, Messerschmitt-Bölkow-Blohm GmbH (MBB) (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser:	Benien, H. (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	München 1990
Schriftenreihe:	MBB-Bericht. Z 318-90 PUB OTN 030817
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