Plasma etching in semiconductor fabrication

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Morgan, Russ A. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Veröffentlicht:	Amsterdam u.a. Elsevier 1985
Schriftenreihe:	Plasma technology 1
Schlagworte:	Halbleitertechnologie > Plasmaätzen > Halbleiterindustrie > Plasmastrahl > Halbleiter > Bearbeitung > Herstellung
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