Plasma etching in semiconductor fabrication

Plasma etching in semiconductor fabrication

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Morgan, Russ A. (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Veröffentlicht: Amsterdam u.a. Elsevier 1985
Schriftenreihe:Plasma technology 1
Schlagworte:
Halbleitertechnologie > Plasmaätzen > Halbleiterindustrie > Plasmastrahl > Halbleiter > Bearbeitung > Herstellung
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Beschreibung
Beschreibung:Brighton, Univ. of Sussex, Thesis
Beschreibung:X, 316 S.
Ill., graph. Darst.
ISBN:0444424199
0-444-42419-9