Interlaboratory study on linewidth measurements for antireflective chromium photomasks

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Jerke, John M. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Croarkin, M. C. (VerfasserIn), Varner, R. N. (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Washington, D.C. U.S. Gov. Print. Off. 1982
Schriftenreihe:	Semiconductor measurement technology 74
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