Strukturbreitenmessung auf photolithographischen Masken und Wafern im Lichtmikroskop : Theorie, Einfluß der Polarisation des Lichtes und Abbildung von Strukturen im Bereich der Auflösungsgrenze

Strukturbreitenmessung auf photolithographischen Masken und Wafern im Lichtmikroskop Theorie, Einfluß der Polarisation des Lichtes und Abbildung von Strukturen im Bereich der Auflösungsgrenze

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Czaske, Martin (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Bremerhaven Wirtschaftsverl. NW, Verl. für Neue Wiss. 1997
Schriftenreihe:Physikalisch-Technische Bundesanstalt <Braunschweig>: [PTB-Bericht / Abteilung Optik] 55
Schlagworte:
Mikroskopie > Fotolithografie > Nanostruktur > Polarisiertes Licht > Hochschulschrift
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Keine Ergebnisse!