Strukturbreitenmessung auf photolithographischen Masken und Wafern im Lichtmikroskop Theorie, Einfluß der Polarisation des Lichtes und Abbildung von Strukturen im Bereich der Auflösungsgrenze

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Czaske, Martin (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Bremerhaven Wirtschaftsverl. NW, Verl. für Neue Wiss. 1997
Schriftenreihe:	Physikalisch-Technische Bundesanstalt <Braunschweig>: [PTB-Bericht / Abteilung Optik] 55
Schlagworte:	Mikroskopie > Fotolithografie > Nanostruktur > Polarisiertes Licht > Hochschulschrift
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