Entwicklung eines prozessrechnergestützten Raster-Tunnelmikroskops und Morphologie-Bestimmung des Halbleiters Siliziumkarbid

München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 1994

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Heuell, Peter (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	1994
Schlagworte:	Rastertunnelmikroskop > Siliciumcarbid > Kristallmorphologie > Hochschulschrift
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Beschreibung
Zusammenfassung:	München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 1994
Beschreibung:	112 S. Ill., graph. Darst.