Aufbau eines in-situ-IR-Spektralellipsometers zur Charakterisierung plasmadeponierter C:H-Schichten

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Friedl, Armin (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	1993
Schlagworte:	PECVD-Verfahren > Kohlenwasserstoffe > Dünne Schicht > Infrarot > Ellipsometrie > Hochschulschrift
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Beschreibung
Beschreibung:	München, Techn. Univ., Diss., 1993
Beschreibung:	92 S. graph. Darst.