Dotierungsprofil-Meßtechnik in der Halbleitertechnologie

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Goldbach, Günter (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Rösch, Ekkehard (VerfasserIn), Wallis, Detlev (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Eggenstein-Leopoldshafen Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik 1983
Schriftenreihe:Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht T / 83,1 - 83,126
Schlagworte:
Dotierungsprofil > Silicium > Halbleitertechnologie
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Beschreibung
Beschreibung:108 S.
Ill., graph. Darst.