Der Stickstoffpartialdruck eine Größe zur Prozeßkontrolle bei der Herstellung von TiN-Schichten mit Hilfe der PVD-Sputtertechnik
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
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Format: | UnknownFormat |
Sprache: | ger |
Veröffentlicht: |
Düsseldorf
VDI-Verl.
1992
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Ausgabe: | Als Ms. gedr. |
Schriftenreihe: | Verein Deutscher Ingenieure: [Fortschritt-Berichte VDI / 5]
270 |
Schlagworte: | |
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