Der Stickstoffpartialdruck eine Größe zur Prozeßkontrolle bei der Herstellung von TiN-Schichten mit Hilfe der PVD-Sputtertechnik

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Juling, Herbert (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Düsseldorf VDI-Verl. 1992
Ausgabe:	Als Ms. gedr.
Schriftenreihe:	Verein Deutscher Ingenieure: [Fortschritt-Berichte VDI / 5] 270
Schlagworte:	Stickstoff > Titannitrid > Partialdruck > Prozessregelung > Hartstoff > Magnetronsputtern > Hochschulschrift
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Der Stickstoffpartialdruck eine Größe zur Prozeßkontrolle bei der Herstellung von TiN-Schichten mit Hilfe der PVD-Sputtertechnik