Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz systematischer Kommentar

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Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser: Reimer, Eduard (BerichterstatterIn), Nastelski, Karl (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Köln ; München u.a. Heymann 1968
Ausgabe:3. erw. Aufl.
Schlagworte:
Deutschland > Modellenrecht > Octrooirecht > Models (Patents) > Patent laws and legislation > Kommentar
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Beschreibung
Beschreibung:XXX, 2505 S.