˜Einœ Beitrag zur Simulation der Elektronenstreuung und zur Kompensation des Proximity-Effekts in der Elektronenstrahl-Lithographie

Siegen, Univ., Diss., 1983

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Vierhaus, Heinrich Theodor (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: 1983
Schlagworte:
Elektronenstrahllithografie > Elektronenstreuung > Simulation > Proximity-Effekt > Hochschulschrift
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Beschreibung
Zusammenfassung:Siegen, Univ., Diss., 1983
Beschreibung:2 Bl., 132 S.