Dotierungsprofil-Meßtechnik in der Halbleitertechnologie

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Goldbach, Günter (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Karlsruhe Fachinformationszentrum 1983
Schriftenreihe:Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht / T 1983,126
Schlagworte:
Halbleitertechnologie > Dotierungsprofil > Silicium
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Beschreibung
Beschreibung:108 S.