Zum Desorptionsverhalten von Übergangsmetallen und organischen Molekülen von der Silicium-(100)-Oberfläche

Frankfurt am Main, Univ., Diss. 1993 (Maschinenschrift, nicht f.d. Austausch)

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Göbel, Ulrich
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Schlagworte:	Organisches Molekül > Kontamination > Übergangsmetall > Wafer > Silicium > Thermische Desorption
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Frankfurt am Main, Univ., Diss. 1993 (Maschinenschrift, nicht f.d. Austausch)
Beschreibung:	184 S. Ill.