Calibration of IR absorbance in highly nitrogen doped silicon

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Gettering and defect engineering in semiconductor technology XV
Weitere Verfasser: Lauer, Kevin (BerichterstatterIn), Möller, Christian (BerichterstatterIn), Porytskyy, Rudolf (BerichterstatterIn), Strutzberg, Hartmuth (BerichterstatterIn), Schulze, Dirk (BerichterstatterIn), Schley, Michael (BerichterstatterIn), Schaaff, Friedrich (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: 2014
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