Herstellung funktioneller Dünnschichtelemente auf den Stirnflächen von Lichtleitfasern mittels hochauflösender lithografischer Strukturierungsverfahren

Zugl.: Ilmenau, Techn. Univ., Diss., 2012

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Jauernig, Uta (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Sinzinger, Stefan (BerichterstatterIn), Bartelt, Hartmut (BerichterstatterIn), Bliedtner, Jens (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Ilmenau Univ.-Verl. Ilmenau 2012
Schlagworte:	Hochschulschrift > Lichtleitfaser > Dünnschichttechnik > Diffraktives optisches Element > Lithografie > Photoresist > Chalkogenidglas
Online Zugang:	Inhaltsverzeichnis Kurzbeschreibung Inhaltstext
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