Laser- und entladungsbasierte Strahlquellen für das XUV-Mikroskop : Schlussbericht zum Projekt ; im Rahmen des Verbundprojektes Labor-XUV-Mikroskop LTXM

Laser- und entladungsbasierte Strahlquellen für das XUV-Mikroskop Schlussbericht zum Projekt ; im Rahmen des Verbundprojektes Labor-XUV-Mikroskop LTXM

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Benk, Markus (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Höfer, Marco (VerfasserIn), Esser, Dominik (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Aachen Fraunhofer ILT 2011
Schlagworte:
Forschungsbericht > Röntgenmikroskop > Extremes Ultraviolett > Lasererzeugtes Plasma
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 13N8914. - Verbund-Nr. 01043652
Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden. - Auch als elektronische Ressource vorh
Beschreibung:40 Bl.
Ill., graph. Darst.