Topical review sputtering yields of compounds using argon ions

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Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser:	Seah, M. P. (BerichterstatterIn), Nunney, T. S. (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Bristol IOP 2010
Schriftenreihe:	Journal of physics Applied physics 43.2010,25
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