Schlussbericht zum Teilprojekt "Integration kristalliner Oxide in sub-100-nm-FD-SOI-CMOS" innerhalb des bmb+f Verbundprojektes "Kristalline Gate-Stacks für sub-100nm-CMOS-Transistoren auf FD-SOI" - KrisMOS Laufzeit des Vorhabens: 01.11.2002 - 30.06.2006

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Kurz, Heinrich (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Lemme, Max Christian (VerfasserIn), Gottlob, Heinrich Dieter Bernd (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Aachen AMO GmbH 2007
Schlagworte:	Forschungsbericht > CMOS > MOS-FET > SOI-Technik > Gadoliniumoxide
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