Schlussbericht zum Teilprojekt "Integration kristalliner Oxide in sub-100-nm-FD-SOI-CMOS" innerhalb des bmb+f Verbundprojektes "Kristalline Gate-Stacks für sub-100nm-CMOS-Transistoren auf FD-SOI" - KrisMOS : Laufzeit des Vorhabens: 01.11.2002 - 30.06.2006

Schlussbericht zum Teilprojekt "Integration kristalliner Oxide in sub-100-nm-FD-SOI-CMOS" innerhalb des bmb+f Verbundprojektes "Kristalline Gate-Stacks für sub-100nm-CMOS-Transistoren auf FD-SOI" - KrisMOS Laufzeit des Vorhabens: 01.11.2002 - 30.06.2006

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Kurz, Heinrich (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Lemme, Max Christian (VerfasserIn), Gottlob, Heinrich Dieter Bernd (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Aachen AMO GmbH 2007
Schlagworte:
Forschungsbericht > CMOS > MOS-FET > SOI-Technik > Gadoliniumoxide
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Beschreibung
Beschreibung:Förderkennzeichen BMBF 01M3142A. - Verbund-Nr. 01023149. - Literaturverz. - Engl. Zsfassung u.d.T.: Integration of crystalline oxides in sub 100nm FD-SOI-CMOS
Unterschiede zwischen dem gedruckten Dokument und der elektronischen Ressource können nicht ausgeschlossen werden
Auch als elektronische Ressource vorh
Beschreibung:54 Bl.
Ill., graph. Darst.