Target- und Analysenkammer für die Oberflächenanalyse von Si-Wafern mit Laserplasma-induzierter Röntgenstrahlung : im Rahmen des Verbundprojektes "Getriggerte, punktförmige Ultrakurzpulsröntgenquellen für Analytik und Medizintechnik" ; Abschlussbericht zum BMBF-Forschungsvorhaben: 13N 7926 ; für den Zeitraum vom 01.01.2001 bis 28.02.2005

Target- und Analysenkammer für die Oberflächenanalyse von Si-Wafern mit Laserplasma-induzierter Röntgenstrahlung im Rahmen des Verbundprojektes "Getriggerte, punktförmige Ultrakurzpulsröntgenquellen für Analytik und Medizintechnik" ; Abschlussbericht zum BMBF-Forschungsvorhaben: 13N 7926 ; für den Zeitraum vom 01.01.2001 bis 28.02.2005

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: Institut für Küstenforschung (BerichterstatterIn)
Weitere Verfasser: Beaven, Peter A. (BerichterstatterIn), Knoth, J. (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Geesthacht 2005
Schlagworte:
Forschungsbericht > Silicium > Dünne Schicht > Röntgenfluoreszenzspektroskopie > Oberflächenprüfung
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