Verbundprojekt Grundlagen der Geräte- und Prozesstechnik für Maskenschreiber (E-Beam) : Teilprojekt: Technologieentwicklung für die 100nm Maskengeneration ; Laufzeit: 1.11.1999 - 31.10.2003 ; Abschluss-Bericht Institut für Mikroelektronik Stuttgart

Verbundprojekt Grundlagen der Geräte- und Prozesstechnik für Maskenschreiber (E-Beam) Teilprojekt: Technologieentwicklung für die 100nm Maskengeneration ; Laufzeit: 1.11.1999 - 31.10.2003 ; Abschluss-Bericht Institut für Mikroelektronik Stuttgart

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Butschke, Jörg (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Irmscher, Mathias (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:ger
Veröffentlicht: Stuttgart u.a. Inst. Für Mikroelektronik 2004
Schlagworte:
Forschungsbericht > Elektronenstrahllithografie > Maskentechnik
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