Innovative Reaktoren und In-situ-Analytik für ultradünne Nano-Schutzschichten. Teilprojekt: Optische Charakterisierung dünnster Schichten mittels ellipsometrischer Verfahren Abschlußbericht ; für den Zeitraum 03/2000...02/2003 ; gemäß Anlage 2 zu Nr. 8.2 NKBF 98
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | UnknownFormat |
| Sprache: | ger |
| Veröffentlicht: |
Berlin
Sentech Instruments GmbH
ca. 2003
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| Schlagworte: | |
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