ECR-Plasmadiagnostik im System Ar-H 2 -N 2 -TMS und Charakterisierung der entstehenden SiC x N y :H-Schichten

Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2002

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Dani, Ines (VerfasserIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	2002
Schlagworte:	Hochschulschrift > ECR-Beschichten > Plasmadiagnostik > Siliciumcarbid > Siliciumnitrid > Dünne Schicht
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