Chemical-Mechanical Polishing 2000 : fundamentals and materials issues ; symposium held April 26 - 27, 2000, San Francisco, California, U.S.A

Chemical-Mechanical Polishing 2000 fundamentals and materials issues ; symposium held April 26 - 27, 2000, San Francisco, California, U.S.A

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Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser: Singh, Rajiv K. (BerichterstatterIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: Warrendale, Pa Materials Research Society c2001
Schriftenreihe:Materials Research Society symposium proceedings 613
Schlagworte:
Electrolytic polishing > Grinding and polishing > Chemical mechanical planarization > Konferenzschrift > Schleifen > Chemisches Polieren
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Beschreibung
Beschreibung:Includes bibliographical references and indexes
Beschreibung:getr. Zählung [ca. 160 S.]
Ill., graph. Darst
24 cm
ISBN:1558995218
1-55899-521-8