Verbesserte Positionsbestimmung von Strukturen auf Photomasken

Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1996

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Siebert, Andreas (VerfasserIn)
Körperschaft:	Physikalisch-Technische Bundesanstalt Abteilung Fertigungsmesstechnik (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	ger
Veröffentlicht:	Bremerhaven Wirtschaftsverl. NW, Verl. für neue Wiss. 1996
Schriftenreihe:	PTB-Bericht Fertigungsmesstechnik 24
Schlagworte:	Hochschulschrift > Forschungsbericht > Fotolithografie > Fertigungsfehler > Platzierung > Maßgenauigkeit > Messgenauigkeit > Maskentechnik > Koordinatenmesstechnik
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