Impact of low-k ILD and Cu on circuit performance
Gespeichert in:
| Körperschaft: | |
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| Weitere Verfasser: | |
| Format: | UnknownFormat |
| Sprache: | eng |
| Veröffentlicht: |
Palo Alto, Calif.
Hewlett Packard Laboratories
1995
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| Schriftenreihe: | HP Laboratories technical report
95-74 |
| Schlagworte: | |
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