SIGE SELECTIVE ETCH FOR THE FORMATION OF DIELECTRIC ISOLATIONS IN MONOLITHIC CFET

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Surface Preparation and Cleaning Conference (2022 : Chandler, Ariz.) 2022 Surface Preparation and Cleaning Conference
1. Verfasser: Gowda, P. (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Oniki, Y. (VerfasserIn), Lai, J. (VerfasserIn), Sanchez, E. (VerfasserIn)
Pages:2022
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: 2023
Schlagworte:
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!