High-Rate Sputter Etching of Substrates Using Hollow-Cathode Arc Discharge Sources

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Society of Vacuum Coaters (65. : 2022 : Long Beach, Calif.) 65th Annual Technical Conference proceedings
1. Verfasser:	Heinß, Jens-Peter (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Klose, Lars (VerfasserIn)
Pages:	65
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	2022
Schlagworte:
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