Numerical Simulation of CVD Reactor for Oxide Semiconductor Layer Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:International Youth Conference on Electronics, Telecommunications and Information Technologies (2021 : Sankt Petersburg) International Youth Conference on Electronics, Telecommunications and Information Technologies
1. Verfasser: Kleimanov, Roman (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Korshunov, Andrey (VerfasserIn), Kondrateva, Anastasia (VerfasserIn), Karaseov, Platon (VerfasserIn), Mishin, Maxim (VerfasserIn), Enns, Yakov (VerfasserIn), Komarevtsev, Ivan (VerfasserIn)
Format: UnknownFormat
Sprache:eng
Veröffentlicht: 2022
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