Plasma deposition of amorphous silicon-based materials

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Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser:	Bruno, Giovanni (HerausgeberIn), Capezzuto, Pio (BerichterstatterIn), Madan, Arun (BerichterstatterIn)
Format:	UnknownFormat
Sprache:	eng
Veröffentlicht:	Boston u.a. Academic Press 1995
Schriftenreihe:	Plasma - materials interactions
Schlagworte:	Amorphous semiconductors > Design and construction > Silicon alloys > Plasma-enhanced chemical vapor deposition > Semiconductors > Amorpher Halbleiter > Siliciumverbindungen > PECVD-Verfahren
Online Zugang:	Publisher description Table of contents
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